国家超导约束聚能研究所。发布页LtXsfB点￠○㎡
实验室。
钱宏远看着屏幕上的数据，眉头紧锁。
“主堆稳定输出功率下降约5%，为了这30W的EUV光源输出，硬生生让聚变堆核心功率掉了5%。”
“李工，这代价…”
他的目光转向李阳，带着询问和忧虑。
聚变堆功率的稳定是核心指标，任何损耗都意味着整体能量的损失，尤其是在追求稳定输出的“龙神堆”
项目中。
周围的空气仿佛也因为这5%的损耗而凝固了。
研究员们脸上的喜色早已褪去，取而代之的是凝重。
30W的EUV光源功率确实是一个振奋人心的突破，远超之前25W的设计基准，证明了“磁约束同步辐射光源”
原理的可行性。
但这5%的功率损耗，像一根刺，扎在所有人的心头。
能量守恒，粒子束流偏转产生的EUV辐射能量并非凭空而来，其代价就是主堆的能量被分走了。
李阳没有立刻回答钱宏远的问题，他站在主控台前，目光扫过屏幕上详细的运行数据流：
等离子体湍流抑制率、约束磁场波动频谱、粒子束轨道偏移量、能量非预期损耗分布……
不知过了多长时间，李阳眼睛一凝，轻轻开口。
“磁场互扰！”
声音平静，听不出情绪波动，却精准点出了核心问题。
“粒子束流通过耦合节点时，其自身携带的强磁场与聚变堆主约束磁场产生了相互干扰。”
“这种干扰不仅导致粒子束轨道不稳，能量损耗超标，更关键的是，它干扰了堆芯边缘区的磁场稳定性，引发了撕裂模扰动。”
“为了抑制这些扰动，反场箍缩算法启动并维持隔离场，又额外消耗了能量。发布页LtXsfB点￠○㎡”
“双重因素叠加，最终导致5%的功率损失。”
他顿了顿，手指在触摸屏上快速操作，调出了粒子束流通道和耦合节点的三维磁场模拟图。
“问题的关键在耦合节点区域的磁场屏蔽和粒子束注入参数的优化。”
“这种程度的干扰，在理论模拟的边界阈值内，但不是最优解。”
钱宏远看着那些复杂的磁场力线叠加区域，大概理解了李阳的判断。
“干扰源太强了？需要更强的隔离？”
“不仅仅是隔离强度的问题。”
李阳摇了摇头。
“单纯的物理隔离，会增加系统复杂性和能量传递损失。”
“我们需要的是一种更高效、更精准的解决方案。”
他看向钱宏远，问道。
“钱教授，还记得我们为新型复合材料准备的‘石墨烯涂层模块’
吗？特殊处理的那一批！”
钱宏远一怔，随即眼中爆发出光芒。
“你是说…那种具备超高热导率和超高电磁屏蔽性能的复合石墨烯涂层？那个不是用来做……”
“对！”
李阳打断他，语气肯定。
“立即调取备用库存，并在所有粒子束流通道的内壁，以及粒子束流与堆芯磁场的关键耦合节点区域，全覆盖加装这种涂层，厚度控制在之前实验验证的最佳值。”
钱宏远立刻明白了李阳的意图。
“利用石墨烯的超高电磁屏蔽性能，隔绝粒子束流自身磁场对主约束场的穿透干扰！同时其超高热导率还能辅助散热！”
“没错！”
李阳点头，同时转向控制台，对冯建辉说道。
“冯教授，同步进行粒子加速器注入方案的调整。”
“在不影响EUV辐射效率的前提下，降低粒子束流在强磁场区域的停留时间和能量密度峰值，找到新的稳定点。”
“参数调整方向：降低初始注入能量5%，优化偏转轨道曲率半径，将注入相位角前移0.15弧度……”
此次是临时任务，有多个部门参与其中，冯建辉等人，自然也在其中，任由李阳调配。
冯建辉没有丝毫犹豫。
“明白！立刻执行参数优化计算！”
整个实验室迅速从刚才的挫败感中脱离，再次高速运转起来。
数小时后，二次耦合点火测试准备就绪。
“石墨烯涂层加装完毕，检测合格！”
“粒子注入新参数锁定：注入能量下调4.8%，轨道曲率半径优化2.1%，相位角前移0.142弧度。最优‘甜蜜点’
确认！”
“启动预充磁系统，场强30%稳定！”
“粒子注入！轨道监测正常！”
“超导主磁场强度提升至标准运行值！”
这一次，当高速粒子束流沿着优化后的轨道呼啸而过，在强磁场作用下偏转时。
主控室的大屏上，代表主约束磁场波动的频谱曲线异常平稳。
之前那些剧烈的毛刺几乎消失不见。
耦合节点区域的磁场监测数据显示，石墨烯涂层发挥了强大的电磁屏蔽作用。
“粒子束流轨道锁定，高度稳定，能量损耗率低于预期值！”
“捕捉到高能辐射信号！峰值波长确认...13.5纳米！”
“EUV输出功率计算…”
负责监测的研究员声音带着一丝不易察觉的激动。
“初始功率…32W，稳定在…35W！”
“35W！！！”
钱宏远忍不住惊叫，满脸骇然。
这个数值，比第一次测试的峰值还高！
还没有让他回过神，更关键的数据紧随其后。
“主约束磁场监测，波动幅度低于安全阈值10%！”
“等离子体湍流抑制率维持在设计值，堆芯核心温度稳定，无异常升温。”
负责功率监测的研究员也连忙汇报。
“主堆稳定输出功率…短暂下降1.2%，3秒后恢复平稳，整体影响低于1.5%！”
一声声汇报，响彻整个实验室。
所有听到这些结果的研究员，还有钱宏远、冯建辉等人，都呆住了。
成功了！？
不仅成功了，结果还异常出色。
解决了问题的同时，还远超了第一次测试的数据！
巨大的压力瞬间消散，实验室里响起一片压抑后的欢呼声。
“太好了，终于成功了！”
“李工牛逼。”
“还以为又要以失败告终了，没想到啊，最后李工竟然挽狂澜于既倒！”
“还得是李工啊！”
“……”
研究员们的激动，溢于言表。
第二次测试的结果，出奇之好。
石墨烯涂层的电磁屏蔽效果和优化后的粒子注入参数完美匹配，将干扰降到了最低限度，代价从5%锐减到可忽略的1.2%，而EUV光源功率反而提升到了35W！
李阳脸上充满了笑容，但也只是持续了片刻。
他对这个结果很满意，当然也在预料之中。
只是，单单做到这一步，还远远不够。
他要的，是独立自主的造出光刻机！
他立刻吩咐道。
“钱教授，立刻组织人手，全面分析第二次测试的所有数据，特别是粒子束流的精准控制参数、辐射强度分布以及磁场同步性……”